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面向 5 nm 及以下光刻产线的场区微振动级差区划参数化方法-振动工程学报2026年10期

面向 5 nm 及以下光刻产线的场区微振动级差区划参数化方法

作者: 胡明祎 ,徐建 ,梁润丰 ,刘鑫 ,伍文科 字体:小   中   大

中图分类号:TU311.3;TB535 文献标志码:A DOI: 10.16385/j.cnki.issn.1004-4523.202607073

Parametric method for graded micro-vibration zoning of sites for sub-5 nm photolithography production lines

HU(试读)...

振动工程学报

2026年第10期